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	晶片清洗机 [产品描述:清洗对象：晶片⑴超声清洗，加热清洗为单槽定时控制，到时给予结束提示音。⑵工艺过程：上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→下料2．结构特点：本设备为柜体式，操作面带有透明门窗。⑴槽体材羃	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-23	查看联系方式
	硅片切片后清洗设备 [产品描述:硅片切片后清洗设备型号：CSE系列，品牌：华林科纳—CSE1.设备由五大部分组成：清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。2.清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组]	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-23	查看联系方式
	硅片甩干机 [产品描述:硅片甩干机是由该系列机型具有高洁净度旋转冲洗甩干功能。主要用于硅圆片、掩模版、太阳能电池等类似材料的冲洗甩干。]	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-23	查看联系方式
	全自动磷硅玻璃腐蚀机 [产品描述:1）主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,刻蚀后的清洗。 2）工艺流程：上料→HF腐蚀+氮气鼓泡→QDR +氮气鼓泡+喷淋→ 下料→离心机甩干 3）设备采用单臂机械手，其工艺时间可以自行调节。能显示温度曲线、臸	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-22	查看联系方式
	太阳能光伏玻璃清洗设备 [产品描述:德国10mm（5MM）NPP板热弯/焊接组合加工；双篮/单篮二、槽体结构：该槽体实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔（包括氮气鼓泡）及顶部左右两侧的DI喷嘴]	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-22	查看联系方式
	LCD清洗腐蚀设备 [产品描述:用于LCD清洗腐蚀本机设有内外两个清洗槽，内槽为酸洗槽，外槽为水洗槽，内外槽均装在隔离槽内，与底部和周围隔离。隔离槽底部倾斜，最低处设有排水管，隔离槽后设有排气装置。]	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-22	查看联系方式
	平板式硅片清洗机 [产品描述:清洗对象是2～8英寸的硅研磨片。设备整体采用进口PLC控制，通过设定工作节拍传送篮具依次经过各个工序，由上料开始到下料均自动完成。设备工作节拍，各项参数设定采用触摸屏完成。设备整体为密闭结构，具有排风装置	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-22	查看联系方式
	清洗制绒设备 [产品描述:主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。2）工艺流程：上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线) 3）设备采用]	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-22	查看联系方式
	清洗制绒设备 [产品描述:主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。2）工艺流程：上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线) 3）设备采用]	苏州华林科纳半导体设备技术有限公司	2008-07-22	查看联系方式
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